要創(chuàng)建偏移剖面，必須通過在“草繪器”中進行草繪以定義切口輪廓。然后，垂直于草繪平面投影此輪廓。單擊  或“視圖”(View)>“視圖管理器”(View Manager)�！耙晥D管理器”(View Manager) 對話框打開。單擊“剖截面”(Xsec)。單擊“新建”(New)。出現(xiàn)一個缺省的剖面名稱。按 ENTER 鍵。“剖截面創(chuàng)建”(XSEC CREATE) 菜單打開。單擊“偏移”(Offset)>“一側(cè)”(One Side) 或“雙側(cè)”(Both Sides)>“完成”(Done)。“選取”(SELECT) 對話框打開。選取草繪平面，并定義查看方向和草繪方向。進入“草繪器”。選取用于尺寸標(biāo)注的參照圖元。草繪剖面輪廓并單擊  退出“草繪器”。 在“視圖管理器”(View Manager) 中，單擊“顯示”(Display)>“設(shè)置可見性”(Set Visible)。“可見性”(Visibility) 對話框打開。單擊“顯示剖面線”(Show X-Hatching) 查看剖面。單擊 預(yù)覽或單擊 接受選取的選項。
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